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    PVD-090-HMDS预处理真空系统工业烤箱HMDS晶片涂胶镀膜烘箱TATUNG

    产品型号: PVD-090-HMDS
    品  牌: TATUNG
    • ≧1 台
      ¥90000.00
    所 在 地: 上海奉贤区
    更新日期: 2022-05-18
    详细信息
    预处理真空系统工业烤箱HMDS晶片涂胶镀膜烘箱
    预处理真空系统工业烤箱HMDS晶片涂胶镀膜烘箱


    HMDS预处理真空烘箱
    一、预处理系统的必要性:
    在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,而涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺显得更为必要,尤其在所刻线条比较细的时候,任何一个环节出现一点纰漏,都可能导致光刻的失败。在涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,如果在晶片表面直接涂胶的话,会造成光刻胶和晶片的黏合性较差,甚至造成局部的间隙或气泡,涂胶厚度和均匀性都受到影响,进而会影响了光刻效果和显影,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和晶片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀,所以涂胶工艺中引入一种化学制剂HMDS(六甲基二硅氮甲烷,英文全名Hexamethyldisilazane)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到晶片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物,是一种表面活性剂,它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。
    二、产品结构与性能
    2.1产品结构:
    1.设备外壳采用优质冷轧钢板表面静电喷塑,内胆316L不锈钢材料制成;无缝不锈钢加热管,均匀分布在内胆外壁,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置;钢化、防弹双层玻璃观察窗,便于观察工作室内物品实验情况。
    2.箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内保持高真空度。
    3温度微电脑PID控制,系统具有自动控温、定时、超温报警等,LCD液晶显示,触摸式按键,控温准确可靠。
    4.智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间。
    5.HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,使真空箱密封性能极好,确保HMDS气体无外漏顾虑。
    6.无发尘材料,适用百级光刻间净化环境使用。
    2.2产品性能:
    1.由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理,所以不会有尘埃的干扰,系统是将去水烘烤和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出而接触到大气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有着更好的处理效果。
    2.由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。
    3.液态涂布是单片操作,而本系统一次可以处理多达4盒的晶片,效率高。
    4.用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多,经实践证明,更加节省药液。
    5. HMDS是有毒化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机,所以也不会对环境造成污染,更加环保和安全。
    三、技术参数:
    规格型号 PVD-090-HMDS PVD-210-HMDS
    容积(L) 90L 210L
    控温范围 RT+10~250
    温度分辨率 0.1
    控温精度 ±0.5
    加热方式 内腔体外侧加温
    隔板数量 2PCS 3PCS
    真空度 <133Pa(真空度范围100~100000pa)
    真空泵 抽气速度4升/秒,型号DM4
    电源/功率 AC220/50Hz,3KW AC380V/50Hz,4KW
    内胆尺寸W*D*H(mm) 450*450*450 560*640*600
    外形尺寸W*D*H(mm) 650*640*1250 1220*930*1755
    连接管:316不锈钢波纹管,将真空泵与真空箱完全密封无缝连接
    备注:选配温度压力记录仪时,因工艺需要改变设备整个外箱结构,请参考实物图。外壳采用优质冷轧钢板粉末静电喷涂,内胆采用316L不锈钢,外箱尺寸为(W*D*H)mm:980x655x1600(含下箱柜高700),下箱柜空置。适用于增加各类选配功能。
    四、HMDS预处理系统的原理:
    HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。
    五、HMDS预处理系统的一般工作流程:
    首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一高真空度后,开始充入氮气,充到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图:首先加热到100-200,去除硅片表面的水分,然后HMDS与表面的OH一反应,在硅片表面生成硅醚,消除氢键作,从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。
    开箱温度可以由user自行设定来降低process时间,正常工艺在50分钟-90分钟(按产品所需而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间(因降温时间为常规降温))。
    六、尾气排放:
    多余的HMDS蒸汽(尾气)将由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。
    七、产品操作控制系统配置:
    1. 标配DM4直联旋片式真空泵(外置);需要使用干泵可选爱德华或安捷伦(选购)
    2. LCD液晶显示温度控制器,PLC触摸屏操作模块
    3. 固态继电器;加急停装置
     
    其它选配:
    1.波纹管2米或3米(标配是1米)
    2.富士温控仪表(温度与PLC联动)
    3.三色灯      4.增加HMDS药液瓶
    5.低液位报警(带声光报警)
    6.HMDS管路加热功能
    7.开门报警       
    8.压力温度记录仪
     
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